ASML回应荷兰半导体出口管制新规：并不适用于所有浸入式光刻设备

ASML表示，回应荷兰尽管尚未收到有关“最先进”的半导不适备确切定义的信息，但是体出公司将其解读为“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的口管刻设浸润式光刻系统。

3月9日上午，制新荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）发布声明表示，规并ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。用于同时公司还表示“新的所有式光出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，先进程度相对较低的浸入浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。”

荷兰政府在3月8日表示，回应荷兰计划对半导体技术出口实施新的半导不适备管制。据悉，体出决定是口管刻设由荷兰贸易部长Liesje Schreinemacher在致荷兰议会的一封信中宣布的。信中称，制新这些管制措施将在今天夏天之前开始实施。规并

信中还指出“荷兰认为有必要以最快的速度对这项技术进行监管，因此荷兰政府将会尽快出台一份国家管控清单”。

尽管信中并没有指名道姓地点出ASML和其合作伙伴，但是ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。

ASML表示，由于该等即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统，这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。基于相关的公告、对荷兰政府许可证政策的预期以及当前的市场形势，预计这些管制措施不会对ASML已发布的2023年财务展望以及于去年11月投资者日宣布的长期展望产生重大性影响。

ASML强调，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。截至目前企业尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，公司将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 

ASML公司官网信息显示，该公司主流的DUV光刻机产品共有三款设备：TWINSCANNXT：1980Di，TWINSCANNXT：2000i和TWINSCANNXT：2050i，其中2000i和2050i两款是公司在声明所指的产品。

此外，ASML指出，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求，并称该公司A长期展望的基础是全球长期需求和技术趋势，而不是对具体地域的预期。自2019年以来，ASML的EUV光刻系统已经受到限制。

ASML此前预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右。 

ASML声明如下：

荷兰政府于今日发布了有关即将出台的半导体设备出口管制措施的进一步的信息。这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。

由于该等即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统。

这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。

基于今日的公告、我们对荷兰政府许可证政策的预期以及当前的市场形势，我们预计这些管制措施不会对我们已发布的2023年财务展望以及于去年11月投资者日宣布的长期展望产生重大性影响。

需要重点指出的是：新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。尽管我们尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，我们将其解读为我们在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。此外，我们要指出，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。最后，ASML的长期展望的基础是全球长期需求和技术趋势，而不是对具体地域的预期。

自2019年以来，ASML的EUV光刻系统已经受到限制。